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[分享] Proe/Creo恒定间距阵列且单元递减的解决方法

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六级士官

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发表于 2020-9-29 09:55:03 | 显示全部楼层 |阅读模式
提问:
问题如图所示,这位小伙伴希望通过阵列能一次实现以下两个变化效果:①每个阵列单元长度递减;②两相邻阵列特征之间保持间距相等。

PS:注意看清问题,这里所描述的间距相等是指在单元递减的情况下保证两圆弧间距离相等
解题思路分享
为了更好的与大家分享做法与思路,下面的内容就通过如上图所示的草绘特征与大家一起学习,相关尺寸定义参考上图。

分析:

如上图所示,此阵列中两相邻草绘圆弧间距50保持恒定,而草绘尺寸长度递减10,变化效果虽然简单,但是提前分析好驱动增量尺寸,对于阵列来说至关重要,所以接下来就是要分析如何来确定阵列的增量尺寸。
如上图所示,从最终阵列完成的特征可以发现尺寸变化规律,150-140-130-120,这里这些数据的由来则是:草绘特征的总长+恒定间距(50),而草绘特征的长度又是需要递减的,所以我们在进行阵列时则可以考虑通过左侧0尺寸来做为横向距离变化的驱动尺寸。

STEP 1:创建草绘特征,注意尺寸约束方式
PS:左侧20距离可以根据需要随意标注数值,其目的是作为后续阵列驱动尺寸。

STEP 2:对上步草绘特征进行尺寸阵列
关系说明:
memb_i - 指定方向中的关系驱动增量

idx1 -阵列实例索引在第一方向,比如阵列个数为5,则idx1取值为:0、1、2、3、4

memb_i=50+100-(idx1-1)*10

其中50代表两阵列单元间间距恒定为50,100表示草绘图形初始总长,10表示每个阵列单元草绘图形总厂递减10,(idx-1)*10表示为图形递减时补偿增量变化
完成效果图

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